Rafrænt stig kolefni tetrafluoride CF 4 99.999% er mest notaða plasma etsunargasið í ör rafeindaiðnaðinum . Það er mikið notað við etsun þunnt filmuefni eins og kísill, kísill díoxíð, Silicon nitride er einnig notaður kísilgler og wungsten {2 Í rafeindafötum yfirborðshreinsun, sólarfrumuframleiðslu, leysitækni, kælingu með lágum hitastigi, gas einangrun, lekagreiningarmiðli, stjórnun á eldflaugarviðhorfi, þvottaefni, smurolíu og bremsuvökvi í prentaðri hringrásarframleiðslu . Vegna sterkrar efnafræðilegs stöðugleika getur rafrænt stig kolefni smelli og plúorí Atvinnugreinar . Einkenni og þróunarþróun rafrænna lofttegunda sem notuð eru í öfgafullum stórum stíl, samþættum hringrásum í dag eru öfgafull, öfgafull, fjölbreytni og fjölfrumun. til að stuðla að þróun eigin rafrænnar tækni {13 {13} og meira og meira athygli á sérstökum rafrænu gasframleiðslu þeirra sem eru með sérstaka bensíni {{{13} eru að greiða meira og meira eftir þróun sérstakrar bensíni. Sem stendur hefur kolefnis tetrafluoride (CF4) löngum skipað æting gasmarkaðinn með tiltölulega lágu verði, svo það hefur víðtæka þróun möguleika .
maq per Qat: Rafrænt stig kolefni tetrafluoride CF 4 99.999%, Kína rafrænt bekk kolefni tetrafluoride CF 4 99.999% Framleiðendur, birgjar, verksmiðja
